国家知识产权局信息显示,武汉国科光领半导体科技有限公司取得一项名为“一种宽波长电吸收调制激光器芯片”的专利,授权公告号CN 223599237 U,申请日期为2024年12月。
专利摘要显示,本实用新型涉及激光芯片技术领域,具体涉及一种宽波长电吸收调制激光器芯片及其制备方法和应用。本实用新型提供的宽波长电吸收调制激光器芯片包括衬底、第一调制器层、第一前光栅层、第一增益层、第一相层、后光栅层、第二相层、第二增益层、第二前光栅层、第二调制器层、取样光栅、包层、电接触层、电隔离沟、P面电极和N面电极。取样光栅设置在第一前光栅层、后光栅层与第二前光栅层内。在所有功能层上方,依次堆叠有包层与电接触层,各功能层之间设置有电隔离沟,电接触层的上方设有P面电极,衬底下方设有N面电极。该芯片利用同一个后取样光栅反射区,实现同一集成芯片双端出光,速率和波长调谐性能翻倍的效果,大大降低集成芯片的功耗。
天眼查资料显示,武汉国科光领半导体科技有限公司,成立于2023年,位于武汉市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1422.5184万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉国科光领半导体科技有限公司参与招投标项目4次,财产线索方面有商标信息8条,专利信息23条,此外企业还拥有行政许可3个。
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