思特威申请图像传感器、制作方法及成像方法专利，解决现有技术中因PD之间的电荷串扰影响图像色彩及图像效果的问题_资讯

思特威申请图像传感器、制作方法及成像方法专利，解决现有技术中因PD之间的电荷串扰影响图像色彩及图像效果的问题

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2025-11-25 10:08:54

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国家知识产权局信息显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司申请一项名为“图像传感器、制作方法及成像方法”的专利，公开号CN 121000985 A，申请日期为2024年5月。专利摘要显示，本发明提供一种图像传感器、制作方法及成像方法，其中图像传感器包括半导体结构层、电路连接层及光学结构层；半导体结构层包括若干个像素单元，相邻像素单元之间设有第一隔离结构，第一隔离结构在厚度方向上贯穿半导体结构层；像素单元包括感光模块及溢出模块；感光模块用于将光信号转换成电荷信号，电荷信号包括第一电荷信号及第二电荷信号；溢出模块用于至少对第二电荷信号进行存储，基于第一隔离结构实现相邻像素单元之间的溢出模块的隔离；电路连接层位于半导体结构层的第一面；光学结构层位于半导体结构层的第二面，包括若干个与各像素单元对应的滤色单元。通过本发明解决了现有技术中因PD之间的电荷串扰影响图像色彩及图像效果的问题。

天眼查资料显示，思特威（上海）电子科技股份有限公司，成立于2017年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本39971.2197万人民币。通过天眼查大数据分析，思特威（上海）电子科技股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息153条，专利信息631条，此外企业还拥有行政许可25个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业成像投资单元结构层图像导体电荷包括专利半导体图像传感器像素

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